一、案例类型

科学研究

二、案例背景

对于Si基陶瓷（如：Sialon，Si₃N₄，SiC等）在高温氧化环境中有一个共同的特点就是氧化衰退问题，这主要是因为它们的热力学不稳定性。在氧化的过程中都会在其表面形成一层SiO₂或者硅酸盐保护层。对于Si₃N₄，已经能够有大量的文献报道了其氧化行为。认为纯净、致密的Si₃N₄相比于其他Si基材料具有最优良的抗氧化性，热压或者是反应烧结制得的Si₃N₄其抗氧化性就相对较差，而且其氧化性还与烧结添加剂的含量与类型以及杂质的含量成函数关系。同样，也有大量文献报道了Sialon陶瓷的抗氧化性。分析Sialon陶瓷在高温下的氧化行为对其用作切屑工具具有重要的意义。

三、教学目的与知识点

1. 教学目的

引导学生掌握对不同测试结果关联分析的方法，理解制备工艺对材料组成、结构和性能的影响。

2. 教学知识点

扫描电镜和电子探针的分析原理；扫描电镜分析对试样的要求；扫描电镜结果分析；X射线衍射的分析原理；X射线衍射分析对试样的要求；X射线衍射结果的分析。